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數(shù)顯勻膠臺

簡要描述:數(shù)顯勻膠臺/勻膠臺 型號:MHY-26376



本機是用于半導體、集成電路及激光息商標制過程中,在硅片、掩模板、玻璃片、陶瓷片等基片上行涂布光刻(感光)膠的用設備。

  • 產(chǎn)品型號:MHY-26376
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-07-09
  • 訪  問  量:493

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產(chǎn)地類別國產(chǎn)


數(shù)顯勻膠臺/勻膠臺 型號:MHY-26376

 

本機是用于半導體、集成電路及激光息商標制過程中,在硅片、掩模板、玻璃片、陶瓷片等基片上行涂布光刻(感光)膠的用設備。本機的作原理是利用速旋轉(zhuǎn)時產(chǎn)生的離心力,將滴于基片上多余的光刻(感光)膠液甩去,在光刻(感光)膠表面張力和離心力的共同作用下,展成厚度均勻的膠膜。本機具有勻膠效率、使用方便等優(yōu)點,勻膠速度和勻膠時間分別可調(diào),電器電路具有較的穩(wěn)定性,結(jié)構(gòu)合理,旋轉(zhuǎn)平穩(wěn),轉(zhuǎn)速、時間采用數(shù)字顯示,直觀性強。本機可與光刻機配套使用。
 
數(shù)顯勻膠臺主要參數(shù):
 
1、作電壓: 380V/220V 
2、整機率: 1200W 
3、勻膠時間控制范圍: 0.01-99.99秒;0.01-99.99分 

4、轉(zhuǎn)速:
 0-8000Rpm 
5、裝片直徑(可根據(jù)用戶要求定制): ф35-75mm 
6、勻膠位(可根據(jù)用戶要求定制): 1-4位 
7、外形尺寸: 
長*寬* 850*810*1600mm
 
8、凈重: 120kg 
 

本機是用于半導體、集成電路及激光息商標制過程中,在硅片、掩模板、玻璃片、陶瓷片等基片上行涂布光刻(感光)膠的用設備。本機的作原理是利用速旋轉(zhuǎn)時產(chǎn)生的離心力,將滴于基片上多余的光刻(感光)膠液甩去,在光刻(感光)膠表面張力和離心力的共同作用下,展成厚度均勻的膠膜。本機具有勻膠效率、使用方便等優(yōu)點,勻膠速度和勻膠時間分別可調(diào),電器電路具有較的穩(wěn)定性,結(jié)構(gòu)合理,旋轉(zhuǎn)平穩(wěn),轉(zhuǎn)速、時間采用數(shù)字顯示,直觀性強。本機可與光刻機配套使用。
 
主要參數(shù):
 
1、作電壓: 380V/220V 
2、整機率: 1200W 
3、勻膠時間控制范圍: 0.01-99.99秒;0.01-99.99分 

4、轉(zhuǎn)速:
 0-8000Rpm 
5、裝片直徑(可根據(jù)用戶要求定制): ф35-75mm 
6、勻膠位(可根據(jù)用戶要求定制): 1-4位 
7、外形尺寸: 
長*寬* 850*810*1600mm
 
8、凈重: 120kg 
 

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